Garnier Czysta Skóra Oczyszczająca maska na dzianinie przeciw niedoskonałościom 23 g
OCZYSZCZAJĄCA MASKA NA dzianinIE PRZECIW NIEDOSKONAŁOŚCIOM wzbogacona ekstraktem z drzewa herbacianego i kwasem salicylowym. Widocznie oczyszcza, ogranicza pory, wygładza i matuje skórę*. Dla skóry tłustej z niedoskonałościami.
*Test konsumencki – 55 pań po 1 użyciu.
Korzyści:
wzrokowo oczyszcza, zmniejsza pory
Wygładza i matuje skórę
odpowiednia dla skóry tłustej z niedoskonałościami
Rezultaty:
Skóra jest optycznie oczyszczona i wygładzona
SPOSÓB wykorzystania: 1. Rozłóż maskę. Delikatnie nałóż ją na oczyszczoną skórę twarzy. Dopasuj do twarzy. 2. Pozostaw na 15 min, następnie zdejmij maskę. 3. Wmasuj pozostałości formuły w skórę twarzy, dekoltu albo usuń ją za pomocą wacika. Wypróbuj także Czystą Skórę 3w1 z glinką dla głębokiego oczyszczenia skóry.
Skład:
AQUA / WATER • GLYCERIN • NIACINAMIDE • SALICYLIC ACID • GLYCERYL ISOSTEARATE • HYDROXYACETOPHENONE • DICAPRYLYL CARBONATE • POTASSIUM HYDROXIDE • CETYL ALCOHOL • HEXYLDECANOL • PEG-100 STEARATE • GLYCERYL STEARATE • AMMONIUM POLYACRYLOYLDIMETHYL TAURATE • XANTHAN GUM • CITRIC ACID • OCTYLDODECANOL • STEARIC ACID • PALMITIC ACID • SODIUM HYALURONATE • PARFUM / FRAGRANCE • CAPRYLOYL SALICYLIC ACID • MYRISTIC ACID • BENZYL SALICYLATE • LIMONENE • MELALEUCA ALTERNIFOLIA LEAF EXTRACT / TEA TREE LEAF EXTRACT • TOCOPHEROL • EUCALYPTUS GLOBULUS LEAF EXTRACT (F.I.L. C265534/2).
Listy komponentów dla produktów są regularnie aktualizowane. Zapoznaj się z listą części na opakowaniu artykułu, gdzie zawsze znajduje się najistotniej aktualna lista elementów, żeby upewnić się, że jest ona dla Ciebie stosowna.
